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 　　光癢催化設(shè)備在外部可見(jiàn)光或機(jī)器設(shè)備內(nèi)部的紫外光的功效下造成催化氧化功效的，光催化氧化反應(yīng)是用納米TiO2二氧化鈦及空氣當(dāng)做催化劑，以光為能量，裂解有機(jī)物等有機(jī)物降解為CO2和H2O。

　　在光催化氧化反應(yīng)中，在253.7nm波段的紫外線光能的直射下納米TiO2催化板吸收光能并同一時(shí)間形成電子躍進(jìn)、空穴躍進(jìn)，電子躍進(jìn)和空穴躍進(jìn)強(qiáng)力結(jié)合后形成電子空穴對(duì)，通常與表層吸附的H20、O2化學(xué)反應(yīng)轉(zhuǎn)化成氧化性很活波的氫氧自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、O-）。可以把空氣中各種各樣有害氣體別的TVOC類(lèi)有機(jī)物直接氧化原成H2O和CO2等小分子物質(zhì)，由于選用的氧化劑是空氣當(dāng)中的H2O和O2，所以不會(huì)形成 二次環(huán)境污染。

　　光癢催化設(shè)備的特點(diǎn)：

　　1、高效除惡臭

　　能高效出去揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各類(lèi)惡臭味，脫臭效果高。

　　2、運(yùn)行成本低

　　本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻＜50Pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

　　3、適應(yīng)性強(qiáng)

　　可適應(yīng)高濃度、大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

　　4、占地面積小

　　設(shè)備占地面積小，自重輕；適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1㎡/處理10000m³/h風(fēng)量。

　　5、無(wú)需預(yù)處理

　　工業(yè)廢氣無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30℃至95℃之間，溫度在30%-98%、PH值在3-11之間均可正常工作。